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퓨리언스, HBM 공정 수율 향상을 위한 포스트 CMP 세정 솔루션 개발
퓨리언스는 반도체 화학적기계연마(CMP) 공정에서 발생하는 오염물을 제거하는 폴리비닐알코올(PVA) 브러시를 개발하는 스타트업이다. 이 회사는 SK하이닉스 사내벤처 4기로 창업되었다. CMP 공정 중 발생하는 슬러리 입자, 연마 잔사, 금속 이온, 유…
